掃描電子偏光顯微鏡的發(fā)展及變化
發(fā)布人：shpuda發(fā)布時間：2014/4/30
1930年以來，透射式電子偏光顯微鏡發(fā)展極快，1940年制成了掃描電子顯徽鏡，到20世紀50年代，由于電子透鏡像差校正理論的發(fā)展和加工技術的提高，給微電子束的形成創(chuàng)造了條件，為制造具有廣泛應用的掃描電子偏光顯微鏡打下了良好的基礎，但當時掃描電子偏光顯微鏡應用的還是背敞射電子成像，由于背散射電子的能量較大，很難排除雜散電子和二次電子的干擾，成像分辨率和放大倍數(shù)均不高，分辨率在100nm左右，放大倍數(shù)只有6000-10000倍。70年代開始，掃描電鏡的分辨率達到優(yōu)于20nm和放大倍數(shù)達1千萬倍以上。
實驗室中制成的掃描透射電子偏光顯微鏡已達到優(yōu)于0.5nm分辨率的新水平，此外，還增加了許多圖像觀察，如吸收電子圖像、電子熒光圖像、掃描透射電子圖像、電位對比圖像、x射線圖像，還可安裝X射線顯微分析裝置等，因而一躍而成為各種科學研究領域(如地學，生物學，醫(yī)學，冶金)、機械加工及工業(yè)部門(如紡織纖維、玻璃絲、塑料制品和陶瓷產(chǎn)品的檢驗，半導休制造、集成電路質(zhì)量檢查)等廣泛應用的有力工具。
掃描電鏡采用掃描技術，是詳細研究表面立體構造的有效工具，它在許多方面都比光學顯微鏡和透射式電子偏光顯微鏡優(yōu)越:它的聚焦景深大，粗糙的樣品表面都可以構成細致詳細的圖像;放大倍數(shù)可以連續(xù)變化，由20倍增至幾十萬倍以上，因此可以對所有表面情況作細致詳細的觀察;所用的樣品很少，甚至完全不需要特殊的制備過程，不破壞樣品，實現(xiàn)無損觀察分析;因景深長，可以任意地在三維空間內(nèi)構成樣品立體感很強的清晰圖像，配置X射線分光儀或用非分光法，可直接探測樣品表面的成分，因而可兼有顯微分析儀的功能，能使樣品處于多種特殊環(huán)境條件下進行試驗觀察，如力學彎曲、磁學、電導性能觀察測定，高低溫條件下的相變及形態(tài)變化等等。
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